提高硅片的良品率 横店东磁取得一种槽式硅片烘干装置专利 (提高硅片的良性含量)

专利摘要显示，本适用新型地下了属于硅片烘干技术范围的一种槽式硅片烘干装置，包括烘干槽，烘干槽的外部设有内槽，内槽与烘干槽之间设有空气流道，烘干槽的底部衔接有电机，电机的输入端上衔接有位于空气流道外部的叶轮，内槽的底部设有密集的通气孔，空气流道的外部设有两根位于内槽两侧的电加热棒，烘干槽的上端设有若干个排气孔，烘干槽的上方铰接有槽盖，槽盖的底面上衔接有风管，风管上设有密集的吹气孔。本适用新型在槽盖的底面上设置了风管，风管与氮气气源衔接，经过吹气孔向下垂直吹风，介入了外部的空气循环，从而可以防止清洗液残留在花篮上，提高硅片的良品率。