上半年化学清洗机拓客进度顺利 芯源微 交大安泰学院参访上海临港厂区 (2021上半年化学学科知识答案)

近日，上海交通大学安泰学院EMBA 2024级全国班师生参访了（688037.SH）厂区。上海芯源微董事长崔晓微向全体师生作主题分享，并就产业展开前景、企业运营控制心得、潜在协作机遇挖掘等外容启动了互动交流。

资料显示，芯源微关键从事半导体公用设备的研发、消费和销售，目前已构成前道涂胶显影设备、前道清洗设备、后道先进封装设备、化合物等小尺寸设备四大业务板块，产品完整掩盖前道晶圆加工、后道先进封装、化合物半导体等多个范围。

芯源微日前在互动平台上表示，公司化学清洗机具有高工艺掩盖性、高稳如泰山性、高洁净度、高产能等多项中心优点，自产品公布以来，已遭到下游客户普遍关注。2023年第四季度，公司化学清洗机获国际关键客户验证性订单，2024年上半年，化学清洗机拓客进度顺利。

上海芯源微基于在湿法范围的深堆积聚，从单片式物理清洗范围切入单片化学清洗范围。据引见，单片式化学清洗机运转于半导体湿法工艺，是芯片制造环节中的关键环节，关键用于晶圆外表污染物的去除或非凡外表处置，对成功最终芯片产品的高良率和牢靠性至关关键。

此前，上海芯源微打造的高端产品单片式化学清洗机曾经正式公布入市，并已获多个国际大客户订单，该设备适用于薄膜前后的清洗、干法蚀刻后清洗、离子注入灰化后清洗、CMP后清洗等多种清洗工艺，工艺掩盖率可以抵达80%以上，同时瞄准客户卡脖子疑问，将高温SPM作为重点研发工艺，努力于成功部分跨越。

另据引见，目前，在集成电路前道晶圆加工范围，芯源微关键产品为前道涂胶显影机、前道物理清洗机。

涂胶显影设备是与光刻机联机任务的中心工艺设备，芯源微是国际独一可提供前道量产型涂胶显影设备的厂商，芯源微物理清洗机也坚持着行业龙头位置。

剖析人士以为，芯源微前道化学清洗机的推出，标志着公司从前道物理清洗范围成功跨入到技术含量更高、市场空间更大的前道化学清洗范围，将公司前道产品（涂胶显影+清洗）的国际市场空间由百亿级大幅优化至两百亿级，有望翻开公司在前道清洗范围的生长空间。

数据显示，2023年芯源微成功支出17.17亿元，同比增长23.98%；归母净利润2.51亿元，同比增长25.21%。最近四年，公司运营业绩坚持加快增长，营业支出、归母净利润年均复合增速均逾越70%。