清楚提高晶片转运环节中的防尘才干 天岳先进开放外延用晶片转运装置及晶片转运方法专利 (提高晶粒度的方法)

专利摘要显示，本发明为一种外延用晶片转运装置及晶片转运方法，属于半导体资料制造范围。其技术方案为，一种外延用晶片转运装置，包括吸盘主体，所述吸盘主体包括托板和盖板，托板与盖板之间距离肯定距离并构成容纳腔，容纳腔的前端开放，容纳腔的后部开设进气口，进气口用于衔接气源并向容纳腔中喷气；托板或盖板上还设有晶片吸附结构。本方案的有益效果为，设计了一种吸盘结构，吸盘具有容纳晶片的容纳腔，经过吸附结构将晶片吸附在容纳腔内外表，然后经过进气口向容纳腔外部通气以构成正压空间，防止外部灰尘进入容纳腔，清楚提高了晶片转运环节中的防尘才干，能够提高晶片外延层的生成质量。