上海光机所在干预仪波前校准方法研讨方面取得进度 (上海光机所在光存储研究进展)

中国迷信院上海光学精细机械研讨所高端光电装备部研讨团队近期在干预仪测试的波前校准方法研讨方面取得进度。相关研讨效果以“High precision wavefront correction method ininterferometer testing”为题宣布于Optics Express。本项任务中，研讨团队针对斐索干预仪测试中波前误差与通常外表误差之间的差异，提出了一种新的高精度光学外表波前校正方法。关键内容包括光学外表函数参数拟合、横向失真校正、错位误差消弭和凹陷外表误差计算。并从函数参数拟合、射线追踪、插值等方面对该方法的误差启动了深化剖析。零位测试性能中离轴抛物面镜的波前校准证明了该方法的有效性。结果显示，实验出现的环形误差清楚减小，离轴方向误差从0.23λ提高到0.05λ（λ=632.8nm），非球面偏离的PV逾越8.5mm。该研讨在高精度光学元件检测环节中有关键意义。