优化全息光栅干预曝光质量 光峰科技取得光栅干预曝光系统专利 (优化全息光栅的方法)

专利摘要显示，本开放地下了一种光栅干预曝光系统，触及全息光栅制造范围，包括发光装置、相位探测装置和至少两组相位调制组件，发光装置用于收回两束相干光束，两束相干光束经过不同途径传输后出现干预构成干预条纹，相位探测装置用于采集干预条纹中对应于每种波长的光线构成的干预条纹，并确定每种波长光线对应的相位漂移量，相位调制组件设于发光装置中且与相位探测装置衔接，且每组相位调制组件对应失掉一种波长的光线的相位漂移量，并基于相位漂移量调制对应光线的波长以弥补相位漂移。因此，光栅干预曝光系统能够对每种波长的光线的相位启动独自调制，成功了多波长干预曝光系统在曝光环节中每种波长的光线的相位恒定，优化全息光栅干预曝光质量。